| 23NPPB勻膠機顯影機EDC-650Hz-23NPPBEDC-650Hz-8NPPB |
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價格：65.00 元(人民幣) | 產(chǎn)地：湖北武漢 |
| 最少起訂量：1 | 發(fā)貨地：湖北武漢 | |
| 上架時間：2023-09-13 19:06:12 | 瀏覽量：149 | |
武漢邁可諾科技有限公司
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 一、產(chǎn)品概述： ????650型勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。 ? 二、勻膠顯影機工作原理： 顯影系統(tǒng)具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮氣）等最后的處理步驟。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在完全干燥的環(huán)境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。勻膠顯影機還有可選擇的動態(tài)線性或徑向滴膠的特性。 ? 三、勻膠顯影機主要性能指標： 1、腔體尺寸：9.5英寸 (241 毫米)； 2、Wafer&芯片：直徑6英寸（150毫米）的晶圓片或者5x5英寸（125毫米）的方片； 3、非真空托盤：聚丙烯材質(zhì)非真空托盤，可承載2、3英寸及150毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能； 3、轉(zhuǎn)動速度：0-3,000rpm； 5、馬達旋涂轉(zhuǎn)速：穩(wěn)定性能誤差 < ±1； 6、工藝時間設定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度； 7、高精度數(shù)碼控制器：PLC控制，設置點精度小于0.006； 8、程序控制：可存儲20個程序段，每個程序段可以設置51步不同的速度狀態(tài)； 9、分辨率：分辨率不超過1轉(zhuǎn)/分，可重復性不超過1轉(zhuǎn)/分，美國國家標準技術(shù)研究院（NIST）認證過的，并且無需再校準！ 10、腔體開關蓋板：透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板，便于實時進行可視化操作； 11、腔體材質(zhì)說明：用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動傳感觸點的合瓣式艙體；
四、適用工藝（包括但不限于下述濕法制程） 光刻膠顯影（KrF/ArF） SU8厚膠顯影 顯影后清洗 PostCMP清洗 光罩去膠清洗 光刻膠去除 金屬Lift-off處理 刻蝕微刻蝕處理
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