反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar100等離子刻蝕機(jī)表面處理儀 |
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一、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹 PlasmaSTAR?系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,擁有多種腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小,用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外,觸摸屏計(jì)算機(jī)控制,多級(jí)程序控制和組件控制,操作簡(jiǎn)單。PlasmaSTAR?模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的獨(dú)特功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁, 有幾種不同的電極設(shè)計(jì),包括用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤(pán)電極,用于最小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。 1、腔體尺寸:直徑≥200mm,深度≥280mm; 2、腔體材質(zhì):硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁矩形腔體; 3、處理腔背面材質(zhì):鋁; 4、處理腔門:要求全自動(dòng)腔門; 5、兩路工藝氣體,≥2路質(zhì)量流量控制器控制氣體流量,氣體輸入腔室?guī)蛄髟O(shè)計(jì); 6、射頻功率:0~600W連續(xù)可調(diào),13.56MHz,自動(dòng)匹配,自然風(fēng)冷; 7、配備RIE平面水冷平板電極; 8、7英寸及以上顯示器、觸摸屏、圖形用戶界面;? 9、程序控制:觸摸屏電腦控制,無(wú)線程序存儲(chǔ); 10、Windows操作系統(tǒng),兼容Windows office軟件,USB接口,可進(jìn)行外部電腦遠(yuǎn)程控制的功能; 11、狀態(tài)和出錯(cuò)信息提示,過(guò)程數(shù)據(jù)和出錯(cuò)信息存儲(chǔ),可選擇自動(dòng)和手動(dòng)操作模式,過(guò)程數(shù)據(jù)可以導(dǎo)出,工藝參數(shù)以圖形方式呈現(xiàn),可實(shí)時(shí)監(jiān)控,自動(dòng)實(shí)現(xiàn)泄露檢測(cè); 12、配套緊急急停按鈕(EMO),配套電路斷路器,機(jī)械聯(lián)鎖(門傳感器)和真空聯(lián)鎖(壓力開(kāi)關(guān)),通過(guò)軟件可進(jìn)行遠(yuǎn)程的真空聯(lián)鎖; 13、典型的光刻膠刻蝕速率:80nm/min; 14、典型工藝均勻性:≥±10; 邁可諾技術(shù)有限公司 客服熱線:4008800298 Q Q:3488598979 ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
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