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長期出售日本光馳鍍膜機(jī)：1300MM 1550MM? 1800MM 韓國韓一鍍膜機(jī)：1600MM 2050MM? 2700MM 專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)，含安裝調(diào)試，免費(fèi)教工藝：18103045976楊經(jīng)理 另高價(jià)回收鍍膜機(jī)。

2016年韓一 HVC-2700DA真空鍍膜機(jī)

旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高；可客制化的基板工件架結(jié)構(gòu)定制，給客戶產(chǎn)品擺放達(dá)到極優(yōu)的利用空間；全自動(dòng)一體的提拉升降的轉(zhuǎn)架裝置，大幅度減少機(jī)器開關(guān)門時(shí)間，大大提高了生產(chǎn)效率與工藝穩(wěn)定性；專利離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩(wěn)定工作效率，低耗能等特點(diǎn)。

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? ? ? 可利用時(shí)間控制薄膜厚度，達(dá)到設(shè)計(jì)工藝要求，節(jié)省晶控，光控環(huán)節(jié)，為客戶省去大量的膜厚儀耗材；可生產(chǎn)高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能；低溫成膜，可應(yīng)對(duì)各種用途；自動(dòng)調(diào)節(jié)氣體流量專利裝置，保持穩(wěn)定的靶電壓，保證成膜品質(zhì)；可選“校正板外部調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)”。

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AR 膜（基材玻璃透過率＞91.5）：

■? 420-680nm波段，單面平均透過率＞95，反射率小于0.5（平均值） ；

■? 雙面平均透過率＞98，反射率小于0.5（平均值）；

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AS/AF膜測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：

■? ?初始接觸角范圍為 115±5°；

■? ?鋼絲絨耐摩擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：用 0000#鋼絲絨，面積為 10*10mm,行程 40 次/分，負(fù)載1Kg，5000 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；

■? ?橡皮擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)： 直徑 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，負(fù)載1Kg， 2500 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；

備注：測(cè)試樣片玻璃需為經(jīng)過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃，表面光潔。

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優(yōu)勢(shì)：

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?出色的均勻性

?可實(shí)現(xiàn)不同的材料或提高產(chǎn)量

?集成式等離子體源，可提高涂層質(zhì)量并進(jìn)行基板預(yù)清潔

?快速更換不同尺寸基板的工具

?高目標(biāo)利用率，不影響涂層規(guī)格

?簡單的目標(biāo)交換和易于訪問的系統(tǒng)維護(hù)

規(guī)格

?腔體尺寸??2700

?蒸發(fā)源?電子束源

??沉積控制?QCM(選項(xiàng):人事管理局)

?基板夾具?可選:分段圓頂(3/6/7)，翻轉(zhuǎn)，行早夾具

?控制系統(tǒng)?HOPE(過程控制和監(jiān)控-PC系統(tǒng))

EB(電子槍） ?1GUN ?韓一 ?12穴

離子源???韓一?（霍爾）

機(jī)械泵???愛德華?EM275

羅茨泵???愛德華EM2600

深冷?????韓國V-PLUS1000H

晶控?????XTC/3S 單探頭

加熱方式???下加熱鹵燈

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耐久性

薄膜均勻性及重復(fù)性

簡便性

提供工藝管理

大量生產(chǎn)對(duì)應(yīng)

安裝后短時(shí)間內(nèi)可以大量生產(chǎn).