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二手新科隆濺射鍍膜機(jī)RAS-1100C是一款受到市場認(rèn)可的鍍膜設(shè)備。它基于真空蒸鍍原理工作，能在真空中將膜料加熱蒸發(fā)，并在基片表面凝結(jié)形成薄膜，具有高精度、高穩(wěn)定性和高重復(fù)性等優(yōu)點(diǎn)，適合科研機(jī)構(gòu)、大學(xué)、企業(yè)進(jìn)行材料科學(xué)研究、器件制造及表面處理等工作。成色如圖，功能完好無維修。適合各種鍍膜需求，穩(wěn)定可靠。提供詳細(xì)設(shè)備參數(shù)和運(yùn)行說明，有任何問題歡迎咨詢。支持上門看貨或視頻看貨，外地協(xié)商發(fā)貨方式。有專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)上門安裝調(diào)試培訓(xùn)教工藝等服務(wù)，快進(jìn)快出銷售，價(jià)格全市場做到優(yōu)勢，誠心要的老板私聊技術(shù)楊經(jīng)理181-030-45976#專業(yè)真空電鍍機(jī)#磁控濺射電鍍機(jī)#蒸發(fā)電鍍機(jī)#多弧電鍍機(jī)

一、磁控濺射鍍膜工藝流程：

1. 準(zhǔn)備工作：

在進(jìn)行磁控濺射鍍膜之前，首先需要進(jìn)行準(zhǔn)備工作。包括清洗基材、安裝目標(biāo)材料、安裝濺射靶材料、設(shè)置真空系統(tǒng)、調(diào)試設(shè)備等。確保工藝設(shè)備的正常運(yùn)行和有效的材料供應(yīng)。

2. 抽真空：

啟動真空設(shè)備，將鍍膜室內(nèi)的氣體抽取出來，以創(chuàng)建一定的真空環(huán)境。通常需要將氣體抽取至達(dá)到良好的真空度，以避免氧氣等雜質(zhì)對鍍膜過程的影響。

3. 加載基材：

將待鍍膜的基材放置于鍍膜室中，通常在基材表面經(jīng)過預(yù)處理，如清洗去除表面的污垢，以提供一個(gè)良好的鍍膜基礎(chǔ)。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 4. 靶材預(yù)處理：

靶材是用來提供鍍膜材料的源頭，通常需要經(jīng)過靶材的清洗、拋光等預(yù)處理工序，確保靶材表面干凈、光滑，并增加靶材的壽命和鍍膜質(zhì)量。

5. 設(shè)置基材和靶材的相對位置：

在鍍膜室中設(shè)置基材和靶材之間的相對位置。一般采用夾具或旋轉(zhuǎn)臺等裝置來控制基材和靶材的距離和角度，以實(shí)現(xiàn)均勻的鍍膜效果。

6. 開始濺射鍍膜：

通過施加一定的電壓和電流，激活靶材，使其表面的材料被離子化。離子化的材料會在真空環(huán)境中以高速運(yùn)動，并沉積在基材的表面上，形成薄膜層。同時(shí)，通過磁場作用，將離子束引導(dǎo)到基材表面，以增加鍍膜的均勻性。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?7. 控制鍍膜參數(shù)：

在鍍膜過程中，需要控制多個(gè)參數(shù)，包括濺射功率、工作氣體流量、濺射時(shí)間等。這些參數(shù)的調(diào)節(jié)可以影響薄膜的成分、結(jié)構(gòu)和性能。通過對這些參數(shù)的優(yōu)化，可以得到所需的薄膜材料。

8. 結(jié)束鍍膜：

鍍膜過程達(dá)到預(yù)定的條件后，停止供應(yīng)靶材的電源和氣體，完成鍍膜過程。

9. 卸載基材：

將已經(jīng)完成鍍膜的基材從鍍膜室中取出，并進(jìn)行必要的后處理，如清洗、檢測等。

二、磁控濺射鍍膜工藝原理：

磁控濺射鍍膜工藝?yán)秒娀〉臒崮軐胁谋砻娴脑踊蚍肿与x子化，并沉積在基材表面上，形成薄膜層。具體的工藝原理如下：

1. 靶材激活：

通過外加電壓和電流，激活靶材，使靶材表面的原子或分子離子化。通常采用直流或射頻電源提供電能，激活靶材并維持離子束的穩(wěn)定。

2. 離子束引導(dǎo)：

在鍍膜室中施加一定的磁場，通過洛倫茲力將離子束引導(dǎo)到基材表面。磁場的作用可以控制離子束的運(yùn)動軌跡，增加鍍膜的均勻性。

3. 碰撞與沉積：

離子束以高速運(yùn)動，在基材表面碰撞并沉積。碰撞過程中，離子的能量會釋放出來，提供熱能進(jìn)而使基材表面的材料溶解并沉積。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?4. 形成薄膜：

通過重復(fù)碰撞和沉積的過程，逐漸在基材表面形成一個(gè)尺寸薄的薄膜層。這一過程可以控制鍍膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)。

總結(jié)起來，磁控濺射鍍膜工藝流程包括準(zhǔn)備工作、抽真空、加載基材、靶材預(yù)處理、設(shè)定相對位置、濺射鍍膜、控制鍍膜參數(shù)、結(jié)束鍍膜和卸載基材等步驟。工藝原理是利用電弧將靶材的材料離子化，并通過磁場引導(dǎo)離子束到達(dá)基材表面，形成薄膜層。這種工藝可以制備出具有高硬度、耐磨損、耐腐蝕性能的薄膜材料，廣泛應(yīng)用于表面處理和功能材料制備領(lǐng)域。