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一，主要用途：

? 廣泛用于LED藍寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、陶瓷、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、不銹鋼，光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。

二，工作原理：

? 本平面拋光機為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達到研磨拋光目的。

三，特點：

? ?1．采用間隔式自動噴液裝置，可自由設(shè)定噴液間隔時間。

? ?2. ?該拋光機工件加壓采用氣缸加壓的方式，壓力可調(diào)；?拋光后工件表面光亮度高、無劃傷、無料紋、無麻點、不塌邊、平面度高等特點。拋光后工件表面粗糙度可達到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。

? ?3．該拋光機采用PLC程控系統(tǒng)，觸摸屏操作面板，研磨盤轉(zhuǎn)速與定時可直接在觸摸屏上輸入。

四，技術(shù)參數(shù)：

五，雙面研磨機的結(jié)構(gòu)特點如下：

1.系列雙面研磨機運行采用四臺電機驅(qū)動，可以給上研磨盤、下研磨盤、齒圈、太陽輪單獨進行調(diào)速，使研磨達到 理想的轉(zhuǎn)速比，其太陽輪相對與其它三個轉(zhuǎn)速的速比可作無級調(diào)速，使游輪可實現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)，滿足了不同研磨及修盤工藝的需求。

2.雙面研磨機采用PLC程控系統(tǒng)，觸摸屏操作面板，電機采用變頻調(diào)速，電機轉(zhuǎn)速與運行時間可直接輸入觸摸屏。

3.研磨機采用四段壓力，即輕壓、中壓、重壓、修研的運行過程。

4.雙面研磨機為下研磨盤升降方式，下研磨盤的高低位置可在總行程范圍內(nèi)隨意停留自鎖，以滿足改變游輪嚙合高低位置的需要。

5.可根據(jù)用戶要求增加光柵厚度控制系統(tǒng)，加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制在±0.002mm范圍內(nèi);平面度公差可控制在±0.001mm范圍內(nèi)。

當(dāng)雙面研磨機的上下研

磨盤工作一段時間后，研磨盤會受到一定程度的損傷了，為了保證研磨盤的表面精度加工能力，我司為雙面研磨機增加了可以對上下研磨盤進行修正的修面機或修正輪。

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