哈爾濱低溫等離子工業(yè)凈化器價(jià)格@除臭環(huán)保設(shè)備 |
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等離子光氧一體機(jī)凈化設(shè)備是一種專(zhuān)門(mén)去除有害氣體及惡臭氣體的一種裝置。它具有運(yùn)行成本低、設(shè)備占地面積小,自重輕、無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作,無(wú)噪音等特點(diǎn),等離子光解一體機(jī)凈化設(shè)備凈化效率在95%以上。 適用范圍:等離子光解一體機(jī)凈化設(shè)備主要運(yùn)用于油漆噴涂、造紙頁(yè)、制藥業(yè)、輪胎及橡膠生產(chǎn)廠、汽車(chē)生產(chǎn)、污水處理、污泥廢氣處理、垃圾處理廢氣、皮革業(yè)、印刷廠、香料生產(chǎn)業(yè)、飼料及飼養(yǎng)場(chǎng)、及煙草業(yè)等等多個(gè)領(lǐng)域的有害氣體、異味和惡臭處理。涉及氣體物質(zhì)多達(dá)900多種。
當(dāng)廢氣進(jìn)入等離子光解一體機(jī)凈化設(shè)備內(nèi)時(shí),先經(jīng)過(guò)等離子體化學(xué)反應(yīng)過(guò)程,即電子首先從電場(chǎng)獲得能量,通過(guò)激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到分子或原子中去,獲得能量的分子或原子被激發(fā),同時(shí)有部分分子被電離, 從而成為活性基團(tuán);之后這些活性基團(tuán)與分子或原子、活性基團(tuán)與活性基團(tuán)之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。(在外加電場(chǎng)的作用下,介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子,使其電離、解離和激發(fā),然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng),使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹?jiǎn)單小分子安全物質(zhì),或使有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無(wú)害或低害的物質(zhì),從而使污染物得以降解去除。)然后部分有機(jī)廢氣再通過(guò)破壞、分解、催化氧化把污染氣體分解為無(wú)害無(wú)味氣體。采用C波段光線強(qiáng)裂污染氣體分子鏈,改變物質(zhì)分子結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì)裂解、氧化成為低分子無(wú)害物質(zhì),如水和二氧化碳等。O3強(qiáng)催化氧化劑進(jìn)行廢氣催化氧化, 可有效地殺滅細(xì)菌,將有害物質(zhì)破壞且改變成為低分子無(wú)害物質(zhì)。在C波段激光刺激催化劑涂層產(chǎn)生活性,強(qiáng)化催化氧化作用。在分解過(guò)程中產(chǎn)生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對(duì)有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用,對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有極強(qiáng)的清除效果。O3也為強(qiáng)催化氧化劑進(jìn)行廢氣催化氧化, 裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),達(dá)到脫臭及殺滅菌的目的。
有足夠的能量來(lái)產(chǎn)生自由基,引發(fā)一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)。由臭氧發(fā)生器作用引起的氣體有機(jī)物化學(xué)反應(yīng)是在氣相中進(jìn)行的電離、離解、激發(fā)、原子,分子間的相互結(jié)合及加成反應(yīng)。這個(gè)能量足以使大多數(shù)氣態(tài)有機(jī)物中的化學(xué)鍵發(fā)生斷裂,從而使其降解。 再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)四、運(yùn)行成本低:本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作開(kāi)發(fā)出了一系列新型實(shí)用高效節(jié)能的環(huán)保產(chǎn)品 從凈化空氣效率考慮,我們選擇了-C波段紫外線和臭氧發(fā)生器結(jié)合電暈電流較高化裝置采用脈沖電暈放吸附技術(shù)相結(jié)合的原理對(duì)有害氣體進(jìn)行消除,其中-C波段紫外線主要用來(lái)去除硫化氫、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、丙酮、尿烷、樹(shù)脂、等氣體及消毒滅菌。 |
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