納米二氧化硅拋光液 氧化硅拋光漿料 |
聯(lián)系人:甘以球 (先生) | 手機(jī):18620162680 |
電話: |
傳真: |
郵箱:1617148588@qq.com | 地址:白云區(qū)新市街道 |
納米二氧化硅拋光液 氧化硅拋光漿料
晶瑞新材料有限公司 甘先生 186 2016 2680.微信同號 納米二氧化硅磨料拋光液由高純納米二氧化硅等多種復(fù)合材料配置而成,通過高科技術(shù)分散成納米顆粒,分散均勻的納米拋光液,具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點,是一種性能優(yōu)良的CM P技術(shù)用的拋光材料.
技術(shù)指標(biāo): 納米二氧化硅拋光液 VK-SP30W 白色乳液 30nm 20%含量 水 納米二氧化硅拋光液 VK-SP50W 白色乳液 50nm 20%含量 水 納米二氧化硅拋光液 VK-SP100W 白色乳液 100nm 20%含量 水
納米二氧化磨料拋光液應(yīng)用特性: 1、拋光速平坦度加工,本品拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子,不會對加工件造成物理損傷,率快,利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達(dá)到高速拋光的目的 2、高純度,拋光液不腐蝕設(shè)備,使用的安全性能高。 3、高達(dá)到高平坦化加工 4、有效有效減少拋光后的表面劃傷,降低拋光后的表面粗糙度。
應(yīng)用范圍: 1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。 2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程,適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。 3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導(dǎo)體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機(jī)系統(tǒng)、光導(dǎo)攝像管等的加工過程。
4、廣泛用于CMP化學(xué)機(jī)械拋光,如:硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工。
納米二氧化硅磨料拋光液使用注意事項: 1、 本品放置時間長后,若有少量沉淀屬于正常現(xiàn)象,用攪拌機(jī)攪拌均勻不影響使用。 2、 如有產(chǎn)品變稠現(xiàn)象,是二氧化硅本身的特性,可以按照與水1:1的比例稀釋,攪拌均勻后再使用。 3、 密閉,干燥陰涼處儲存,避免太陽直射。
包 裝:25kg/桶
|
版權(quán)聲明:以上所展示的信息由會員自行提供,內(nèi)容的真實性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會員負(fù)責(zé)。機(jī)電之家對此不承擔(dān)任何責(zé)任。 友情提醒:為規(guī)避購買風(fēng)險,建議您在購買相關(guān)產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。 |
機(jī)電之家網(wǎng) - 機(jī)電行業(yè)權(quán)威網(wǎng)絡(luò)宣傳媒體
關(guān)于我們 | 聯(lián)系我們 | 廣告合作 | 付款方式 | 使用幫助 | 會員助手 | 免費(fèi)鏈接Copyright 2011 jdzj.com All Rights Reserved技術(shù)支持:杭州濱興科技有限公司
銷售熱線:0571-28292387 在線客服:0571-87774297
展會合作/友情連接:0571-87774298
網(wǎng)站服務(wù)咨詢:0571-28292385
投訴熱線:400-6680-889(分機(jī)7)
網(wǎng)站經(jīng)營許可證:浙B2-20080178