電捕焦含氧分析儀系統(tǒng)
術(shù)參數(shù)和說明：
技術(shù)參數(shù)：（焦?fàn)t煤氣電捕焦器現(xiàn)場(chǎng)采樣分析點(diǎn)工況）
取樣點(diǎn)位置：焦?fàn)t煤氣電捕焦器出口
分析參數(shù)： O2（可選擇分析原理：電化學(xué)，磁氧或者激光分析儀，其價(jià)格有較大差異）
測(cè)量范圍： O2：0-2%（當(dāng)達(dá)到1%O2輸出報(bào)警節(jié)點(diǎn)信號(hào)，自由設(shè)定）
被測(cè)煤氣溫度：40～60℃ 、含塵量：微量 、含水量：中等 、含焦油量：少量 、其他腐蝕成份（S O2）：少量 、結(jié)晶物（萘）：少量 、管道壓力：微正壓 、 產(chǎn)品詳細(xì)信息
分析柜組件及裝置技術(shù)參數(shù)：由前處理單元、供電單元、分析校對(duì)單元組成。
（1）前處理單元包括： 專用過濾器組件（除奈、焦油）、氣液分離器、除濕器、抽氣泵（進(jìn)口部件）、精除硫管、流量調(diào)節(jié)器、等。通過粗、細(xì)三級(jí)過濾和分離、吸收粉塵、焦油、奈、酸霧、冷卻除濕水份的綜合凈化處理，提供分析儀器超凈的分析氣源。 （2）供電及控制單元包括： 電源控制盤（包括高性能空氣開關(guān)、接線端子、）、輸出故障報(bào)警接點(diǎn)信號(hào)；具有數(shù)據(jù)采集、自動(dòng)處理氧氣成份含量越限報(bào)警功能。控制PLC、二位三通電磁閥等。
（3）分析單元包括： JNYQ－O－11C型氧量分析儀（進(jìn)口傳感器）、流量計(jì)、流路切換閥、標(biāo)準(zhǔn)樣氣等。
（4）越限報(bào)警功能： 分析儀對(duì)凈化后的煤氣樣品進(jìn)行連續(xù)在線分析，輸出4-20mA信號(hào)和無源觸電信號(hào)。若氧濃度越限時(shí)，裝置立即輸出報(bào)警接點(diǎn)信號(hào)（無源接點(diǎn)，容量1A），確保電捕焦器設(shè)備安全運(yùn)行。
（5）測(cè)量范圍及分析精度： 測(cè)量對(duì)象及量程： 0-2% O2 精 度：≤±1%F.S 線性誤差: ≤±1%F.S 裝置系統(tǒng)響應(yīng)時(shí)間：T90＜15S （6）信號(hào)輸出： 現(xiàn)場(chǎng)所大屏液晶數(shù)字顯示O2含量并以 4—20mA成份信號(hào)隔離輸出給上位機(jī)或DCS。超限報(bào)警、聯(lián)鎖、故障報(bào)警信號(hào)輸出及容量： 氧濃度越限報(bào)警值在儀表量程范圍內(nèi)分別可設(shè)定（出廠時(shí)設(shè)定濃度報(bào)警值：0.80%,O2）報(bào)警信號(hào)輸出無源接點(diǎn)，容量：220VAC，1A
（7）裝置預(yù)處理功能 不銹鋼取樣探頭、三級(jí)除塵、除硫、除萘、除焦油、除酸霧、除水份、穩(wěn)壓、穩(wěn)流、快速放散、粉塵凈化精度≤0.1u
（8）裝置維護(hù)周期：≥30天
三、設(shè)計(jì)方案及配置說明
1、配置原則： 本分析裝置中的重要關(guān)鍵部件（如：抽氣泵、傳感器、PLC等）采用原裝進(jìn)口，其它能夠長(zhǎng)期保證使用的關(guān)鍵、主要和一般性部件則采用國(guó)內(nèi)合資企業(yè)和本廠生產(chǎn)制造的，盡量減少后期維護(hù)的運(yùn)行成本。
2、本分析裝置主要技術(shù)特點(diǎn)如下： 本裝置是按“交鑰匙式”工程設(shè)計(jì)。裝置除取樣器外和專用過濾器組件，樣氣的預(yù)處理單元、供電單元和分析校對(duì)單元均置于分析柜內(nèi)，出廠前已調(diào)試完畢。現(xiàn)場(chǎng)只需用戶安裝探頭、輔設(shè)取樣線、外圍電源和分析柜就位即可。到時(shí)供方來技術(shù)人員到現(xiàn)場(chǎng)指導(dǎo)按裝和調(diào)試。
3、分析柜按國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)制作，開有觀察大窗方便操作者巡視和維護(hù)。
4、系統(tǒng)全干法流程，對(duì)分析組分不會(huì)有影響取樣器、取樣管，各類管接頭（與樣氣接觸部分）、抽氣泵均為防腐設(shè)計(jì)。泵等均采用防腐不銹鋼、聚四氟乙烯材料或特殊防腐處理，提高了系統(tǒng)防腐性。保證了系統(tǒng)使用壽命。
5、采用自動(dòng)除濕器，具有使用壽命長(zhǎng)，維護(hù)工作量小，除濕效果穩(wěn)定等特點(diǎn)，樣氣中的殘余水汽將得到徹底清除，從而達(dá)到干燥樣氣的目的，避免了水汽對(duì)儀器的干擾。
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