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京邁研廠家直銷 科研實(shí)驗(yàn)專用 三氧化二鋁靶材Al2O3靶材磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

純度 99.99%

產(chǎn)品介紹

   化學(xué)式Al2O3。是一種高硬度的化合物，熔點(diǎn)為2054℃，沸點(diǎn)為2980℃，在高溫下可電離的離子晶體，常用于制造耐火材料。氧化鋁含有元素鋁和氧。若將鋁礬土原料經(jīng)過化學(xué)處理，除去硅、鐵、鈦等的氧化物而制得的產(chǎn)物是純度很高的氧化鋁原料，Al2O3含量一般在99%以上。礦相是由40%～76%的γ- Al2O3和24%～60%的α- Al2O3組成。γ- Al2O3于950～1200℃可轉(zhuǎn)變?yōu)棣? Al2O3，同時(shí)發(fā)生顯著的體積收縮。

產(chǎn)品用途
用作研磨劑，并用于制坩堝、陶瓷、耐火材料和人造寶石等。用作制鋁原料，并可形成不同晶形的氫氧化鋁
產(chǎn)品參數(shù)

中文名 氧化鋁                沸    點(diǎn) 2980?C
分子量 101.96                密    度 3.5-3.9g/cm3
外 觀 白色無定形粉狀物  作用 在高溫下可電離的離子晶體，常用于制造耐火材料

高純?yōu)R射靶材（規(guī)格按要求定做）
高純金屬濺射靶材
鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鐵靶Fe、鋅靶Zn、錫靶Sn、鎂靶Mg、鈷靶Co、鎳靶Ni、鈦靶Ti、金靶Au、銀靶Ag、鉑靶Pt、錸靶Re、釕靶Ru、鈀靶Pd、銠靶Rh、銥靶Ir、銦靶In、釩靶V、鎘靶Cd、鎢靶W、鉬靶Mo、鉭靶Ta、鈮靶Nb、鋯靶Zr、鉿靶Hf、鍺靶Ge、硅靶Si、錳靶Mn、鉍靶Bi、硒靶Se、硼靶B、鈣靶Ca

合金濺射靶材 （規(guī)格按要求定做）
鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe

陶瓷靶材 （規(guī)格按要求定做）
ITO靶材、AZO靶材、IGZO靶材、氧化鎂靶材MgO、氧化釔靶材Y2O3、氧化鐵靶材Fe2O3、氧化鎳靶材Ni2O3、氧化鉻靶材Cr2O3、氧化鋅靶材ZnO、硫化鋅靶材ZnS、硫化鎘靶材CdS、硫化鉬靶材MoS2、二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化鋯靶材ZrO2、五氧化二鈮靶材Nb2O5、二氧化鈦靶材TiO2、二氧化鉿靶材HfO2、二硼化鈦靶材TiB2、二硼化鋯靶材ZrB2、三氧化鎢靶材WO3、三氧化二鋁靶材Al2O3、五氧化二鉭靶材Ta2O5、氟化鎂靶材MgF2、硒化鋅靶材ZnSe、氮化鋁靶材AlN、氮化硅靶材Si3N4、氮化硼靶材BN、氮化鈦靶材TiN、碳化硅靶材SiC、鈮酸鋰靶材LiNbO3、鈦酸鐠靶材PrTiO3、鈦酸鋇靶材BaTiO3、鈦酸鑭靶材LaTiO3、鈦酸鍶靶材SrTiO3等高密度陶瓷濺射靶材.

稀土靶材
 釓靶Gd、釤靶Sm、碲靶Te、鏑靶Dy、鈰靶Ce、釔靶Y、鑭靶La、銻靶Sb、鐿靶Yb、鉺靶Er、鋱靶Tb、鈥靶Ho、銩靶Tm、釹靶Nd、鐠靶Pr、镥靶Lu

稀土陶瓷靶
氧化鑭靶La2O3、氧化鈰靶CeO2、氧化鐠靶Pr6O11、氧化釹Nd2O3、氧化釤靶Sm2O3、氧化釹靶Nd2O3、氧化鉺Er2O3靶、氧化銩靶Tm2O3、氧化鈥靶Ho2O3、氧化銪靶Eu2O3等稀土陶瓷靶材