| trymax 半導(dǎo)體 光刻膠剝離及灰化設(shè)備 等離子去膠機 neo200a系列 |
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價格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：本地 |
| 最少起訂量：1 | 發(fā)貨地：本地至全國 | |
| 上架時間：2019-05-06 23:35:53 | 瀏覽量：216 | |
上海儀恩埃半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
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| 所屬行業(yè)：分立半導(dǎo)體 | 主要客戶：全國 | |
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加工定制否 品牌trymax 型號neo2400 用途光刻膠剝離及灰化設(shè)備 別名去膠機 規(guī)格1 展開 trymax 半導(dǎo)體 光刻膠剝離及灰化設(shè)備 等離子去膠機 neo200a系列 點我去除廣告 trymax半導(dǎo)體光刻膠剝離及灰化設(shè)備等離子體去膠機neo200系列 trymax半導(dǎo)體設(shè)備neo200系列等離子去膠機是目前世界上進的等離子體光刻膠剝離及灰化的設(shè)備。 neo 200系統(tǒng)可以用于目前任何可能的工藝過程，可用于直徑為200mm的襯底兼容。      ?產(chǎn)品特點： 高達(dá)200毫米晶圓尺寸/基板尺寸 4個集成上料口or 4個開盒基臺 4軸雙臂機械人處理； 選擇性降溫和缺口對準(zhǔn)； 2到4個制程室； 4個不同的進程腔體: ?單微波源配置(2.45 ghz) ?單射頻源配置(13.56 mhz) ?雙源配置(mw, rf) ? dcp (rf,雙源) -良好的一致性與可重復(fù)性； -機械速率> 300wph -占地面積小 -使用成本低 -全數(shù)字控制 -工業(yè)計算機windows ?應(yīng)用 大范圍光阻剝除 清除浮渣工藝 光刻膠去除 高溶量植入（溶膠）去處 氮化硅刻蝕應(yīng)用 mems應(yīng)用 先進封裝工藝(pr, pi, bcb, pbo) qq：330982708 手機：18146536415 |
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