| 微波等離子清洗機，等離子去膠機，用于半導體晶圓清潔及光刻膠去除 |
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價格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：本地 |
| 最少起訂量：1 | 發(fā)貨地：本地至全國 | |
| 上架時間：2019-05-06 23:36:13 | 瀏覽量：310 | |
上海儀恩埃半導體設備有限公司
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| 經(jīng)營模式：其他 | 公司類型：否 | |
| 所屬行業(yè)：分立半導體 | 主要客戶：全國 | |
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加工定制是 型號pty-10 材質(zhì)鋁 適用范圍工業(yè) 品牌戈德爾 展開 微波等離子清洗機，等離子去膠機，用于半導體晶圓清潔及光刻膠去除 點我去除廣告 等離子清洗機/ 等離子刻蝕機 / 等離子處理機 / 等離子去膠機 / 等離子表面處理機 等離子清洗-等離子處理-等離子刻蝕-等離子去膠-等離子活化- 等離子表面處理 等離子清洗機，等離子表面處理設備廣泛應用于： 等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。 產(chǎn)品特點: 1.環(huán)保技術：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環(huán)境無污染。 2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理； 3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。 4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000a ），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能； 5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。 6.全過程可控工藝：所有參數(shù)可由plc設置和數(shù)據(jù)記錄，進行質(zhì)量控制。 7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。 |
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