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基本參數(shù)

icp發(fā)射光譜儀天瑞ICP2060T 工業(yè)硅元素化驗分析icp廠家報價

   工業(yè)硅又稱金屬硅，是本世紀(jì)六十年代中期出現(xiàn)的一個商品名稱。金屬硅是由硅石和碳質(zhì)還原劑在礦熱爐內(nèi)冶煉成的產(chǎn)品，主成分硅元素的含量在98%左右（近年來，含Si量99.99%的也列在金屬硅內(nèi)），其余雜質(zhì)為鐵、鋁、鈣等。因其用途不同而劃分為多種規(guī)格，按照金屬硅中鐵、鋁、鈣的含量，可把金屬硅分為553、441、411、421、3303、3305、2202、2502、1501、1101等不同的牌號。金屬硅的附加產(chǎn)品包括微硅粉，邊皮硅，黑皮硅，金屬硅渣等，其中微硅粉也稱硅灰，它廣泛應(yīng)用于耐火材料和混凝土行業(yè)。

   以碳酸鋰-四硼酸鋰為熔劑，鋁礬土試樣經(jīng)高頻融樣機高溫熔融。熔融物在PTFE燒杯中，用稀鹽酸加熱溶解。樣品溶液使用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀測定，結(jié)果準(zhǔn)確度高、重復(fù)性好。

  1、主要配置及附件：
以光電倍增管PMT檢測器為基礎(chǔ)的單道掃描電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，高頻發(fā)生器，自動調(diào)諧，提供具有中英文操作界面的軟件；
專用自動溫控循環(huán)冷卻水系統(tǒng)；
氬氣導(dǎo)管；
冷卻水管；
高靈敏度進樣系統(tǒng)（高效進口霧化器加雙筒型霧化室）。

2、主要技術(shù)參數(shù)：
臺式,等離子體垂直觀測系統(tǒng)。
等離子體火焰可進行二維調(diào)整（由計算機控制），并利用“儀器診斷”功能，實時觀察調(diào)整結(jié)果。
精密度 ：優(yōu)于國家檢定規(guī)程A級標(biāo)準(zhǔn)
穩(wěn)定性 ：優(yōu)于國家檢定規(guī)程A級標(biāo)準(zhǔn)
分辨率 ：在Mn257.610nm處，峰半高寬為≤0.008nm（3600線光柵）。
≤0.015 nm（2400線光柵）。
所有元素滿足國標(biāo)A級標(biāo)準(zhǔn)，部分元素如Ba檢出限遠低于國家A級標(biāo)準(zhǔn)
譜線靈活性：可對分析元素的譜線進行定性、半定量和定量分析。擁有幾千條譜線，可以根據(jù)需要與愛好選擇適當(dāng)?shù)淖V線，避開可能存在的干擾，為您提供更多的選擇，更合理的推薦，讓測試變得更加專業(yè)與準(zhǔn)確。

3、進樣系統(tǒng)：
炬管：一體式。根據(jù)中心通道大小有多種型號可選
霧化器：高效進口霧化器，多型號可選，高鹽、耐HF等
霧化室：雙筒型霧化室，可以選配旋流式霧化室
總氬氣消耗量：氬氣總消耗量小于14L/min
蠕動泵轉(zhuǎn)速可根據(jù)需求流量設(shè)置調(diào)節(jié)（即根據(jù)進樣速度設(shè)定，直觀，準(zhǔn)確）

4、射頻發(fā)生器和等離子體：
類型：固態(tài)射頻發(fā)生器，水冷，自動調(diào)諧，帶有過載、過溫各種安全保護。
輸出功率：800W~1600W，連續(xù)可調(diào)，調(diào)節(jié)精度為2W
等離子氣、輔氣、載氣開啟與流量為軟件控制，點火、滅火也均由軟件控制。

5、光學(xué)系統(tǒng)：
光學(xué)穩(wěn)定性：與進樣系統(tǒng)設(shè)計在一個平臺上，整個光學(xué)系統(tǒng)具有防震措施，一般的地面震動不影響其分析性能。同時儀器穩(wěn)定腳墊再增加一套防震保護，起到二次防震的目的。
溫度穩(wěn)定性：±0.1℃。
最小步距為0.0004nm

6、控制軟件：
軟件操作方便、直觀，具有定性、半定量、定量分析功能，具有儀器診斷優(yōu)化功能，軟件具有全中文，可根據(jù)需要選擇切換。報告格式輸出格式為pdf、excel，電子檔或直接打印，且可以為中文模板�？刂栖浖梢栽谥形陌鎃indows 7下運行、XP下運行。軟件帶有自動進樣器控制接口。

全自動安全保護功能，儀器通訊和控制采用控制卡，觀測位置由軟件控制并優(yōu)化，具有控制蠕動泵轉(zhuǎn)速功能。可以與天瑞AS100自動進樣器聯(lián)合使用，控制樣品的切換、清洗、進樣等過程。
儀器診斷軟件和網(wǎng)絡(luò)通訊，數(shù)據(jù)再處理功能，自動生成測試報告。
軟件具有數(shù)據(jù)檔案管理功能，支持?jǐn)?shù)據(jù)的備份、恢復(fù)、刪除，支持?jǐn)?shù)據(jù)的文本格式輸出。格式類可選，也可以打印輸出。

     以上檢測標(biāo)準(zhǔn)符合 硅中雜質(zhì)元素測定電感耦合等離子體發(fā)射光譜法 SG-GC-07.2-2009

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