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高對比度、低電壓成像的場發(fā)射掃描電子顯微鏡

總體描述

為對任意樣品進行高水準的成像和分析而生
蔡司GeminiSEM 系列產(chǎn)品具有出色的探測效率，能夠輕松地實現(xiàn)亞納米分辨成像。無論是在高真空還是在可變壓力模式下，更高的表面細節(jié)信息靈敏度讓您在對任意樣品進行成像和分析時都具備更佳的靈活性，為您在材料科學(xué)研究、生命科學(xué)研究、工業(yè)實驗室或是顯微成像平臺中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實的圖像，提供靈活、可靠的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)和方案。

技術(shù)參數(shù)：

Gemini 1 –成熟的Gemini技術(shù)概覽
場發(fā)射掃描電子顯微鏡具有更高的分辨率，離不開其性能優(yōu)異的電子光學(xué)鏡筒。蔡司Gemini技術(shù)專為對任意樣品進行高分辨成像設(shè)計，尤其在低電壓下保持完整和高效的探測系統(tǒng)、出色的分辨率和易用性等特點。
蔡司Gemini電子光學(xué)鏡筒具有以下三個主要特點
蔡司Gemini物鏡的設(shè)計結(jié)合了靜電場和磁場，在提高其電子光學(xué)性能的同時將它們對樣品的影響降至更低。無漏磁物鏡設(shè)計，可以對如磁性材料等極具挑戰(zhàn)的樣品同樣地進行高品質(zhì)成像；
蔡司Gemini電子束推進器技術(shù)，讓電子束經(jīng)過加速后以高電壓通過鏡筒，最終再減速至設(shè)定電壓后進入樣品倉，很大程度地減小電子束的像差，保證了在非常低的加速電壓下仍可獲得小束斑和高信噪比；
蔡司Gemini 鏡筒的設(shè)計理念將Inlens二次電子（SE）和背散射電子（BSE）探測器均放置在鏡筒內(nèi)正光軸上，使兩者均具有更高的信號采集效率且可以同時成像，有效的縮短了獲取圖像的時間，更好地提高工作效率。
蔡司Gemini技術(shù)優(yōu)勢能為您提供以下便利：
經(jīng)校準后的鏡筒具有長期的穩(wěn)定性，您在日常使用時只需要簡易地設(shè)定基本的參數(shù)，如加速電壓、探針電流等；
無漏磁的物鏡設(shè)計，可對包括磁性樣品在內(nèi)的各類型樣品進行無畸變、高分辨率的成像；
Inlens二次電子探測器具有高效的SE 1信號采集效率，給您呈現(xiàn)來自樣品極表面的真實形貌圖像；
鏡筒內(nèi)能量過濾背散射探測器以其創(chuàng)新的設(shè)計理念，使您在低電壓下可獲得高分辨率、高襯度、以及更真實的樣品材料襯度圖像。

特點：

更強的信號，更豐富的細節(jié)
GeminiSEM 500 為您呈現(xiàn)任意樣品表面更強的信號和更豐富的細節(jié)信息，尤其在低的加速電壓下，在避免樣品損傷的同時快速地獲取更高清晰度的圖像。
更高的速度與靈敏度，更好的成像和分析
GeminiSEM 450更快的響應(yīng)和更高的表面靈敏度使其能快速、靈活、可靠地對樣品進行表面成像和分析，簡便、快速地進行EDS能譜和EBSD等分析，同時保持出色的空間分辨率，充當您的得力助手。
更靈活的成像方式
無論是資深用戶還是初學(xué)者，GeminiSEM 300將讓您體驗到在更高的分辨率和更佳的襯度下進行極大視野范圍成像的樂趣，并且在高真空或是可變壓力模式下都可以實現(xiàn)。

北京冠普佳科技有限公司，

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