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ASML 4022.634.17485

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詳細介紹

ASML 4022.634.17485

：技術(shù)參數(shù)與性能解析

ASML作為全球領(lǐng)先的光刻設(shè)備制造商，其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片制造領(lǐng)域。本文將詳細介紹ASML 4022.634.17485這一型號的光刻設(shè)備參數(shù)，幫助讀者全面了解其技術(shù)特點與性能優(yōu)勢。

基本信息

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型號：ASML 4022.634.17485

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類型：浸沒式光刻機

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用途：用于先進半導(dǎo)體芯片制造，支持7nm及以下工藝節(jié)點

光源系統(tǒng)

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光源類型：ArF（氟化氬）準分子激光

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波長：193nm

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光源功率：≥60W

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激光穩(wěn)定性：優(yōu)于0.5%

ASML 4022.634.17485采用先進的ArF準分子激光作為光源，其193nm的波長能夠滿足高分辨率光刻需求。光源功率高達60W以上，確保了設(shè)備的高效運行，而激光穩(wěn)定性控制在0.5%以內(nèi)，則保證了光刻過程中的高精度與一致性。

光學(xué)系統(tǒng)

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物鏡數(shù)值孔徑：1.35

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投影透鏡系統(tǒng)：雙工件臺系統(tǒng)

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分辨率：≤7nm

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套刻精度：≤1.5nm

該設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)具備高數(shù)值孔徑的物鏡和先進的雙工件臺投影透鏡系統(tǒng)，這不僅提高了光刻分辨率，使其達到7nm及以下水平，還保證了套刻精度在1.5nm以內(nèi)，從而滿足了先進工藝節(jié)點對高精度光刻的嚴格要求。

工件臺系統(tǒng)

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工件臺類型：TWINSCAN平臺

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移動速度：≥500mm/s

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加速度：≥10g

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定位精度：≤0.5nm

ASML 4022.634.17485搭載的TWINSCAN平臺工件臺系統(tǒng)，具有高速移動和高加速度的特點，移動速度可達500mm/s以上，加速度超過10g。同時，其定位精度高達0.5nm以下，確保了光刻過程中的高精度定位與曝光。

浸沒系統(tǒng)

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浸沒液體：去離子水

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浸沒液溫度控制：±0.01°C

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浸沒液厚度控制：±1nm

采用去離子水作為浸沒液體，通過精確的溫度和厚度控制，ASML 4022.634.17485的浸沒系統(tǒng)能夠有效提高光刻分辨率并減少工藝誤差。溫度控制精度在±0.01°C以內(nèi)，厚度控制精度則在±1nm以內(nèi)。

生產(chǎn)能力

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產(chǎn)能：≥200wph（每小時晶圓數(shù)）

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生產(chǎn)效率：支持多模式生產(chǎn)

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良率：≥95%

該設(shè)備具備較高的生產(chǎn)能力，每小時可處理200片以上晶圓。支持多模式生產(chǎn)，能夠靈活適應(yīng)不同工藝需求。此外，設(shè)備良率高達95%以上，為客戶帶來了顯著的經(jīng)濟效益。

環(huán)境與安全

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能耗：≤1000kW

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噪音水平：≤85dB(A)

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安全標準：符合國際安全標準

ASML 4022.634.17485在能耗和噪音控制方面表現(xiàn)出色，能耗不超過1000kW，噪音水平控制在85dB(A)以下。同時，設(shè)備符合國際安全標準，保障了操作人員的安全與健康。

總結(jié)

ASML 4022.634.17485作為一款先進的浸沒式光刻設(shè)備，憑借其卓越的光源系統(tǒng)、光學(xué)系統(tǒng)、工件臺系統(tǒng)和浸沒系統(tǒng)，以及高效的生產(chǎn)能力和良好的環(huán)境與安全性能，為半導(dǎo)體芯片制造提供了強大的技術(shù)支持。其技術(shù)參數(shù)和性能優(yōu)勢使其成為全球半導(dǎo)體行業(yè)不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備之一。

聯(lián)系人：吳經(jīng)理手機：18596688429（微信同號）郵箱：841825244@qq.com

ASML 4022.634.17485

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光源系統(tǒng)

光學(xué)系統(tǒng)

工件臺系統(tǒng)

浸沒系統(tǒng)

生產(chǎn)能力

環(huán)境與安全

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