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公司12年來共研制開發(fā)出40余項半導體化合物材料：
碲系化合物：
碲化銅(cute)，碲化銦( inte)，碲化鋅(znte)，p/n三碲化二鉍(bi2te3)，二氧化碲(teo2)...
硫系化合物：
三硫化二鎵(ga2s3)，二硫化鍺(ges2)，硫化鋅(zns)，硫化錫(sns)，三硫化二銦(in2s3)，硫化亞銅（cu2s）...
無氧硒及硒系化合物:
三硒化二鎵(ga2se3)，硒化亞銅(cu2se)，三硒化二銦(in2se3)，硒化鋅(znse)，硒化鉍(bi2se3)...
氯系化合物：
無水三氯化銦(incl3)，無水三氯化鎵(gacl3)，無水氯化亞銦(incl)...
氧系化合物：
4n-5n三氧化二鎵(ga2o3)，4n-5n氧化鋅(zno)，5n-6n 三氧化二銦(in2o3)，5n 三氧化二鉍(bi2o3)，4n-5n 三氧化二銻（sb2o3）...
銅銦鎵硒（cigs）系列材料.
靶材：氧化鋅靶，氧化鋅鋁靶，銅銦鎵硒靶，三硒化二銦靶，硒化亞銅靶材...
公司現(xiàn)有工藝及設備：
1，電解裝置4套：回收電解銅，電解鉛鋅礦的陽極泥；高純銦的電解，特別是除去里面的雜質錫。
2，真空蒸餾裝置12套：根據(jù)雜質不同的飽和蒸氣壓，采用真空蒸餾的方法將其去除。
3，區(qū)域熔煉爐10套。
4，單間提拉爐12套。
5，cvd 化學氣相沉積設備3套。
6，pvd裝置2套。
7，真空熔煉爐15套。
8，thm 移動式加熱設備。
9，氯化爐3套（高純銻專用），氫化還原爐3套。
公司現(xiàn)有的檢測設備：
1，icp-ms;icp-oes (適用范圍：檢測